Inorder to increase the performance/cost ratio of solar cells, new approachesreducing optical and electrical losses are necessary during the absorption ofthe light and collection of charge carriers. In this work we focused on varioustextures on silicon surface towards a better light management of the cellsurface. The efficiency of a solar cell strongly depends on the properties ofthe interaction between the incoming light beam and the surface of the device.In order to maximize the absorption and the efficiency of the cell, variouslight trapping schemes have been proposed. We have applied differentlithography techniques such as optical lithography, nanoimprint lithography (NIL), hole mask colloidal lithography (HCL) togenerate various periodic micro and nano surface textures. After predefinedpattern transfer process steps, either dry plasma etching or wet chemicaletching techniques were applied. Structural properties of the features likediameter, pitch size, depth were varied and optimized. With a variety oftexturing and etching process types, at the end of the study, periodic andrandom-introduced-periodic patterns were successfully implemented to solar cellfabrication step. The performances of the solar cells were investigated bothoptically and electrically.
Güneşpilinin performans/maliyet oranını arttırmak için, ışığın emilimi ve yüktaşıyıcıların toplanması sırasında optik ve elektrik kayıplarını azaltan yeniyaklaşımlar gereklidir. Bu çalışmada silikon yüzeyinin daha iyi bir ışıkyönetimine yönelik çeşitli şekillere odaklandık. Bir güneş pilinin verimliliği,gelen ışık ışını ve cihazın yüzeyi arasındaki etkileşimin özelliklerine oldukçabağlıdır. Güneş hücresinin ışık emilimini ve verimliliğini en üst düzeyeçıkarmak için çeşitli ışık tutucu şemalar önerilmiştir. Çeşitli periyodik mikrove nano yüzey dokuları oluşturmak için optik litografi, nanoimprint litografi(NIL), delik maskesi kolloidal litografi (HCL) gibi farklı litografi teknikleriuyguladık. Önceden tanımlanmış desen transfer işlemi aşamalarından sonar, kuruplazma aşındırma veya ıslak kimyasal aşındırma teknikleri uygulanmıştır. Çap,periyot, derinlik gibi yapısal özellikleri değiştirilmiş ve optimizeedilmiştir. Çeşitli desenleme ve aşındırma işlem türleri ile çalışmanınsonunda, periyodik ve rastgele-tanıtılmış-periyodik desenler, güneş pili üretimaşamasında başarıyla uygulanmıştır. Üretilen güneş pillerinin performanslarıhem optic hem de elektriksel olarak incelenmiştir.